地方独立行政法人大阪産業技術研究所 - 当法人は、(地独)大阪府立産業技術総合研究所と(地独)大阪市立工業研究所が統合し、平成29年4月1日にスタートしました。研究開発から製造まで、企業の開発ステージに応じた支援を一気通貫で提供し、大阪産業の更なる飛躍に向け、大阪発のイノベーションを創出します。

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電子・機械システム研究部

技術分野

技術分野(キーワード)

  • 当部は、真空・薄膜材料、半導体微細加工やMEMS(MicroElectroMechanicalSystems)技術やナノ・マイクロデバイス、電子制御やメカトロニクスなどの担当分野で、技術相談や依頼加工、装置使用、現地相談などに対応いたします。
  • 研究開発では、高機能性薄膜材料開発、革新的な有機トランジスタやMEMS技術を駆使したナノ・マイクロデバイスの開発等を行っており、企業・大学等との連携や国プロ事業などにも積極的に取り組んでおります。
  • それぞれの担当分野での技術支援はもとより、薄膜材料開発から微細加工デバイス作製、信号処理システム、組み込み技術、試作機開発まで、一貫した総合的ものづくり技術支援をご提案していきます。

キーワード

薄膜作製/新機能薄膜材料/真空技術/ナノ・マイクロデバイス/MEMSプロセス/半導体微細加工/センサ応用/機器制御/自動化機器/信号処理/磁気計測など。

ものづくり設計試作支援工房

支援団体

研究テーマ

平成28年度

  • 特別研究・・・11件

温度補償素子集積型高温小型オイルレス圧力センサの作製(特提28005)
有機半導体単結晶の巨大ひずみ応答を用いた人体動作センシング(2016年度)(特提28012)
超小型USB接続培養細胞監視装置の実用試作(特提28017)
圧電MEMS振動発電素子の微細加工技術と評価(特提28018)
高性能レアメタルフリーフレキシブル酸化物トランジスタおよび論理回路の開発(特提28111)
内耳蝸牛内電位駆動型の非常用電力体内給電システムの基盤技術開発とその評価(特提28113)
レアメタルフリーZn2SnO4酸化物材料を用いた薄膜トランジスタの熱処理効果(特提28203)
革新的高性能有機トランジスタを用いたプラスティック電子タグの開発(特提28301)
低コスト・高生産性を実現する革新的有機半導体結晶膜塗布装置の開発(特提28307)
原子ステップ・デコレ-ションを用いた自己組織化によるグラフェン・ナノワイヤの作製(特共28001)
金属を表面吸着させたグラフェンなどの原子層薄膜の電気特性の解明と電子デバイス応用(特共28005)

  • 共同研究・・・7件

FGVによる垂直軸型風力発電装置用モニタリングシステムの開発(共同28007)
熱伝導率測定用MEMSチップの開発(共同28009)
マイクロ超音波センサの作製(共同28014)
耳介伝達関数を用いたDeepNeuralNetworkによる個人認証に関する検討(共同28016)
ナノ光デバイスを用いたバイオセンサーの開発(共同28019)
電着法によるマイクロレンズの作製、評価およびTOMBOへの応用(共同28021)
機能性薄膜の光学特性に関する研究(共同28022)

  • 所内研究・・・7件

温度補償素子集積型高温小型オイルレス圧力センサの開発(基盤28008)
非破壊検査装置用小型MEMS超音波アレイセンサの開発(基盤28009)
熱処理がZn2SnO4(ZTO)を用いた薄膜トランジスタ 特性に与える影響(基盤28010)
強磁性半導体の熱電効果に関する研究(基盤28011)
5軸摩擦攪拌接合装置による曲線接合を支援するシステムの開発(基盤28012)
電着薄膜の作製条件解明による光学特性改善とマイクロレンズを用いた応用技術開発(基盤28013)
筐体内部の音源位置同定に関する研究(基盤28014)

平成27年度

  • 特別研究・・・9件

革新的高性能有機トランジスタを用いたプラスティック電子タグの開発 (特堤27002)
高速シリコンディープエッチング装置を使ったMEMS音響センサの開発 (特堤27010)
3次元有機トランジスタを用いた有機チャネル高周波特性解明と高速デバイスの開発 (特堤27101)
内耳蝸牛内電位駆動型の非常用電力体内給電システムの基盤技術開発とその評価 (特堤27114)
温度補償素子集積型高温小型オイルレス圧力センサの作製 (特提27014)
有機半導体単結晶の巨大ひずみ応答を用いた人体動作センシング(2015年度フェ-ズ1) (特提27018)
有機半導体単結晶の巨大ひずみ応答を用いた人体動作センシング(2015年度フェ-ズ2) (特提27019)
強誘電体MEMSによる高効率振動発電素子の開発 (特共27001)
原子ステップ・デコレ-ションを用いた自己組織化によるグラフェン・ナノワイヤの作製 (特共27002)

  • 共同研究・・・9件

熱伝導率測定用MEMSチップの開発 (共同27003)
カラーマイクロレンズアレイの作製、評価およびTOMBOへの応用 (共同27005)
FGVによる垂直型風力発電の性能向上に関する研究 (共同27006)
培養細胞常時監視装置の開発 (共同27007)
マイクロ超音波センサの作製 (共同27008)
グラフェントランジスタの表面クリーニング技術 (共同27014)
耳介伝達関数を用いた個人認証 (共同27026)
スパッタ法により製膜した積層膜の光学特性に関する研究 (共同27029)
ナノインプリント製光デバイスの創製とバイオセンサーへの応用 (共同27031)

  • 所内研究・・・6件

薄膜・電子デバイス開発プロジェクト研究 (プロ27001)
受圧管一体型構造を用いた高温用小型・オイルレス高感度圧力センサの開発 (基盤27009)
ZnO-SnO2(ZTO)薄膜を用いたTFTの熱処理効果に関する研究 (基盤27010)
強誘電ポリマーのデバイス応用 (基盤27011)
強磁性半導体中を用いたスピン波デバイスに関する研究 (基盤27012)
フレキシブル有機トランジスタのための新規微細電極作製プロセスの開発 (基盤27013)

平成26年度

  • 特別研究・・・5件

3D有機トランジスタを用いたフレキシブル接触圧センサアレイの開発 (特提26001)
革新的高性能有機トランジスタを用いたプラスティック電子タグの開発 (特提26002)
3次元有機トランジスタを用いた有機チャネル高周波特性解明と高速デバイスの開発 (特提26105)
レアメタルフリー酸化物材料を用いたフレキシブルディスプレイ用高移動度薄膜トランジスタの開発 (特提26208)
強誘電体MEMSによる高効率振動発電素子の開発 (特共26001)

  • 共同研究・・・4件

自然風況下における風力発電装置の遠隔モニタリングシステムに関する研究 (共同26001)
培養細胞常時監視装置における画像処理システムの開発 (共同26002)
マイクロ超音波センサの作製 (共同26003)
前駆体法によるSi-O-C(-H)皮膜の合成に対する焼成雰囲気効果 (共同26010)

  • 所内研究・・・6件

薄膜・電子デバイス開発プロジェクト研究 (プロ26001)
受圧管一体型構造を用いた高温用小型・オイルレス高感度圧力センサの開発 (基盤26008)
ZnO-SnO2(ZTO)薄膜を用いたTFTのガラス基板上への作製 (基盤26009)
強誘電ポリマーのデバイス応用 (基盤26010)
強磁性体半導体中のスピンダイナミクス制御に関する研究 (基盤26011)
インターネットを利用した実験室の環境モニタリングシステムの作成 (基盤26012)

平成25年度

  • 特別研究・・・7件

革新的高性能有機トランジスタを用いたプラスティック電子タグの開発 (特提25002)
ZnO-SnO2系レアメタルフリー酸化物を用いた高移動度薄膜トランジスタの作製 (特提25011)
積層型歪抵抗薄膜を用いた高温小型オイルレス圧力センサの作製 (特提25012)
3次元有機トランジスタを用いた有機チャネル高周波特性解明と高速デバイスの開発 (特提25104)
単結晶材料を用いた最高性能有機半導体論理素子の開発 (特提25201)
強誘電体MEMSによる高効率振動発電素子の開発 (特共25002)
培養細胞常時監視装置における画像処理システムの開発 (特共25004)

  • 共同研究・・・4件

自然風況下における風力発電装置の遠隔モニタリングシステムに関する研究 (共同25108)
紙の上のグラフェントランジスタの作製 (共同25111)
前駆体法による耐酸化性Si-O-C(-H)皮膜の合成 (共同25116)
マイクロ超音波センサの作製 (共同25118)

  • 所内研究・・・8件

薄膜・電子デバイス開発プロジェクト研究 (プロ25001)
温度および外力印加時における歪抵抗薄膜の電気・機械的特性の調査 (基盤25014)
TFT作製を目的としたZnO-SnO2系薄膜の物性の解明 (基盤25015)
強誘電ポリマーのデバイス応用 (基盤25016)
アルミニウム化合物を用いた高性能透明断熱積層薄膜の開発 (基盤25017)
スパッタ法による磁性半導体薄膜の開発 (基盤25018)
インターネットを利用した実験室の環境モニタリングシステムの作成 (基盤25019)
超音波を用いた位置計測手法の改善とハードウェアの開発 (基盤25020)

平成24年度

  • 特別研究・・・7件

革新的な高性能有機トランジスタを用いた表示パネル用フレキシブル高性能マトリックスの開発 (特提24001)
強誘電体MEMSによる高効率振動発電素子の開発 (特共24003)
ZnO-SnO2系レアメタルフリー酸化物を用いた高移動度薄膜トランジスタの作製 (特提24017)
革新的高性能有機トランジスタを用いたプラスティック電子タグの開発 (特提24018)
有機単結晶界面のデバイス機能と物性開拓 (特提24104)
3次元有機トランジスタを用いた有機チャネル高周波特性解明と高速デバイスの開発 (特提24108)
単結晶材料を用いた最高性能有機半導体論理素子の開発 (特提24203)

  • 共同研究・・・4件

フッ素系材料の耐宇宙環境性に関する研究 (共同24103)
マイクロ超音波センサの作製 (共同24105)
高性能三次元有機トランジスタの開発 (共同24110)
メカトロ試験装置WG (共同24111)

  • 基盤研究・・・6件

酸窒化アルミニウムを用いた高性能透明断熱シートの開発 (基盤24013)
ZnO-SnO2系材料を用いた薄膜トランジスタの作製 (基盤24014)
計測制御ネットワークシステムの開発手法の調査
-Android OS搭載スマートフォンと周辺マイコン電子機器との通信制御システムの試作- (基盤24015)
ウェブサイトから操作できるグラフィックスコンテンツの作成 (基盤24016)
超音波を用いた位置計測手法の改善とハードウェアの開発 (基盤24017)

依頼試験

試験番号項目試験条件条件係数・試料数金額(円)
B109 触針式膜厚測定装置 1試料 1測定 4,100
I308 磁束密度の測定 1点   5,200
I316 B-H特性の測定 1測定   19,200
I320 表面磁束密度の測定 1試料 1測定
※1条件増すごとの加算額
5,200
2,100
I321 磁束密度の高さ分布測定 1試料 1測定 15点
※1条件増すごとの加算額
5,200
2,100
I324 ホール効果測定 (室温) 1試料   9,400
I325 ホール効果測定 (温度可変) 1試料 5点
※1点増すごとの加算額
23,300
1,900
O303 スパッタリング 1件   18,900
O304 イオンビーム又はニュートラルビーム 1件   34,000
O305 イオンビームエッチング 1件   25,500
O309 マスク作製加工 1件 4時間
1時間増すごとの加算額
30,600
11,800
O310 半導体熱処理
(酸化、拡散、CVD)
1件 2時間
1時間増すごとの加算額
48,600
16,200
O312 高密度プラズマCVD 1件   34,000
O316 レーザ描画加工 1枚 4時間
1時間増すごとの加算額
22,100
3,700
O318 マスク設計 1件 1時間 5,000
O319 スパッタリング(半導体デバイス製造用) 1件   22,000
O322 高精度フォトリソグラフ 1件 2時間 32,700
O323 真空蒸着 1件   14,800
O324 高速シリコンディープエッチング 1件   30,400
O409 ウェハー等切断 1件   7,000

※必要に応じて使用料とは別途、1機器(設備)につき1単位(30分)分の 指導料(2,500円)を頂戴致しております。

装置使用

機器番号項目単位金額(円)
A3028 イオンビームエッチング装置 半日 8,100
A3031 超音波ボンダー 半日 3,200
A3032 スパッタ装置 半日 13,700
A3034 FET静特性測定器 半日 5,900
A3037 フォトリソグラフ 半日 9,400
A3117 磁気特性測定装置 1日 32,000
A3131 電気抵抗測定システム 1日 12,300
A3132 強磁場発生装置 1日 28,500
A3136 高精度マスク作製装置 半日 25,600
A3137 高精度フォトリソグラフ 半日 15,800
A3138 ウェハー切断機 1時間 2,100
A3140 マイクロデバイス簡易計測機器一式 1時間 890
A3148 ガウスメータ 1日 1,500
A3152 高密度プラズマCVD装置 半日 14,000
A3159 小型電気炉 時間 1,600
A8301 ホール効果測定装置 半日 17,600
A8303 多機能真空蒸着装置 半日 9,400
A8305 触針式膜厚測定装置 時間 2,000
A9206 半導体デバイス製造用スパッタ装置 半日 17,500
A9220 薄膜用スクラッチ試験機 1時間 4,300
A9239 真空蒸着装置 半日 5,900
A9251 ものづくり工房3Dプリンタ装置 1時間 2,000
A9252 ものづくり工房用3Dプリンタ用材料(10g) 1時間 470
A9253 ものづくり工房3Dスキャナ装置 1時間 400
A9254 ものづくり工房CADシステム 1時間 360
A9255 ものづくり工房3次元切削加工機 1時間 1,600
A9257 強誘電体特性評価装置 1時間 1,200
A9261 クリーンルーム 半日 2,000
A9293 高速シリコンディープエッチング装置 1時間 10,400
D1003 超薄膜評価システム(エリプソメータ) 1時間 1,100
E1005 多層膜スパッタ装置 半日 13,800
E1006 電子ビーム蒸着装置 半日 5,900
E1007 NLDエッチング装置 半日 8,100
E1008 両面マスクアライナー 半日 15,800
E1009 電子顕微鏡(SEM) 半日 13,400
A7120 赤外線サーモグラフィ装置 1時間 2,800

※必要に応じて使用料とは別途、1機器(設備)につき1単位(30分)分の 指導料(2,500円)を頂戴致しております。

メンバー

所 属役 職氏 名技 術 分 野
電子・機械システム研究部 電子・機械システム研究部長 北川 貴弘 マイコン制御、制御系シミュレーション、機構設計及び自動化の研究・指導、「ものづくり設計試作支援工房」
融合研究チーム 兼 電子・機械システム研究部 研究管理主幹(総括研究員)(理博) 宇野 真由美 有機トランジスタ等の有機半導体デバイス、塗布プロセス、MEMS・微細加工技術、スパッタリング等の薄膜作製技術に関する研究開発・依頼加工
電子デバイス研究室 研究室長(主幹研究員)(工博) 村上 修一 微細パターン設計・形成技術、半導体微細加工技術、MEMS技術、有機薄膜デバイス技術に関する研究・指導・試験
電子デバイス研究室 主任研究員(工博) 田中 恒久 MEMS技術、半導体熱処理・CVD技術、超音波センサ技術に関する研究・指導・試験
電子デバイス研究室 主任研究員(工博) 筧 芳治 薄膜作製技術、X線回折・ESCA・ホール効果測定を用いた材料評価に関する研究・指導・試験
電子デバイス研究室 主任研究員(工博) 山田 義春 薄膜作製技術、磁性材料に関する研究・指導・試験、マイクロスクラッチ試験
電子デバイス研究室 研究員(工博) 近藤 裕祐 有機半導体デバイスシステム開発、及び薄膜作製技術、薄膜材料に関する研究・指導・試験
電子デバイス研究室 研究員(工博) 中山 健吾 MEMS技術、微細加工技術、有機トランジスタ等の有機半導体デバイス、薄膜作製技術に関する研究・指導・試験
知能機械研究室 研究室長(主幹研究員)(理博) 佐藤 和郎 微細加工技術、マイクロデバイス、ドライエッチング、薄膜作製、酸化物薄膜に関する研究・指導・試験
知能機械研究室 主任研究員(工博) 朴 忠植 PC、マイコンを用いた自動計測制御システムの研究開発・指導、サーモグラフィ機器開放、「ものづくり設計試作支援工房」
知能機械研究室 主任研究員 大川 裕蔵 自動制御システム設計、FSW制御プログラムの開発、HMI(Human-Machine-Interface)の開発、サーモグラフィ機器開放、「ものづくり設計試作支援工房」
知能機械研究室 研究員 金岡 祐介 電子回路設計、計測・信号処理回路技術、センシング技術に関する研究・指導・試験、「ものづくり設計試作支援工房」
知能機械研究室 研究員 喜多 俊輔 マイコン制御、制御系シミュレーション、機構設計及び自動化の研究・指導、「ものづくり設計試作支援工房」
知能機械研究室 研究員(工博) 赤井 亮太 制御系シミュレーション、FSW制御プログラムの開発、サーモグラフィ機器開放, 「ものづくり設計試作支援工房」

インフォメーション

依頼試験、技術相談、相談内容で担当部署がわからない場合など、下記相談窓口へお尋ねください。

本部・和泉センター

(技術相談・総合受付)
0725-51-2525

9:00~12:15/13:00~17:30
(土日祝・年末年始を除く)