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多機能真空蒸着装置
装置番号
A8303
構成装置・型番
メーカー・名称
型番
株式会社クライオバック
RVC-2-ICP
ヨミ
タキノウシンクウジョウチャクソウチ
料金
9,500円 半日 (消費税10%を含みます)
仕様
到達真空度
1×10E-4 Pa程度
基板ホルダーサイズ
150mmΦ×3mmt、あるいは50mm角×3mmt×4枚
基板加熱温度
350 °C
蒸着源
2元(独立)
蒸着電源
1系統、10V-150A
膜厚モニター
水晶振動子式膜厚モニター
関連装置
(A9239)真空蒸着装置
概要
本装置は、抵抗加熱蒸着源を2元備えた真空蒸着装置です。この2元の蒸着源は、真空外部から切り替え可能で、積層膜や多層膜の作製が可能です。また、蒸着源とは別に、ガス導入系1系統とプラズマ発生用コイルを備えており、13.56 MHz の高周波電力によるアルゴンプラズマの発生が可能で、いわゆるプラズマアシスト成膜も可能です。
参考画像