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マスクレス露光装置
装置番号
A8306
構成装置・型番
メーカー・名称
型番
HEIDELBERG・フォトマスク作製装置
MLA 150
ヨミ
マスクレスロコウソウチ
料金
8,100円 1時間 (消費税10%を含みます)
仕様
光源
固体レーザ 波長 375 nm
基板
最大7 inchx 7 inch、厚さ0.1 mm~12 mm
最小線幅
1.2 μm
最大描画領域
150 x 150 mm2
アライメント精度
1.0 μm (両面アライメントも可能)
最大描画速度
500 mm2/min
CAD
GDSII、DXFなどのフォーマット可能
関連装置
(A3137)高精度フォトリソグラフ
(A9293)高速シリコンディープエッチング装置
(A3032)スパッタ装置
概要
本装置は、フォトリソグラフィに使用するフォトマスクの作製が行えるほか、マスクレスでパターンを基板に直接描画が可能です。光源に波長375 nmの固体レーザを、光学系にDigital Micromirror Deviceを用いています。描画範囲がφ4インチの場合、市販のフォトレジストが塗布されたマスクブランクスであれば20分程度で描画が完了します。直接描画では高精度なアライメント機能も活用できます。
参考画像