地方独立行政法人大阪産業技術研究所 - 当法人は、(地独)大阪府立産業技術総合研究所と(地独)大阪市立工業研究所が統合し、平成29年4月1日にスタートしました。研究開発から製造まで、企業の開発ステージに応じた支援を一気通貫で提供し、大阪産業の更なる飛躍に向け、大阪発のイノベーションを創出します。

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【論文掲載およびback cover選出】共同研究成果 (英国王立化学会発行「Nanoscale Advances」)

電子材料研究部 品川 勉 主任研究員が主著者として執筆した論文が、英国王立化学会(RSC)発行の論文誌「Nanoscale Advances」に掲載され、品川 主任研究員がデザインしたカバーアートが裏表紙に採用されました。

〇論文題目
“Oriented growth of stacking α-cobalt hydroxide salt continuous films and their topotactic-like transformation to oriented mesoporous films of Co3O4 and CoO”
(層状α-コバルト水酸化物塩の積層連続膜の配向成長と、そのトポタクティックな変換によるメソポーラスな配向Co3O4膜および配向CoO膜の形成)

〇執筆者および掲載論文
 Tsutomu Shinagawa*, Natsuko Kotobuki and Atsushi Ohtaka,
 Nanoscale Advances, 2023, 5, 96-105.

〇共同研究 大阪工業大学 大高 敦 准教授との共同研究

〇概要
 水溶液電析法を用いることで、α水酸化コバルト膜の配向析出に初めて成功し、これを加熱処理することで結晶配向性の高いナノポーラス酸化コバルト膜を得ることができました(下左図)。この成果をまとめた論文が学術誌「Nanoscale Advances」に掲載され、配向ナノポーラス構造を表現した図案が掲載号の裏表紙に選出されました(下右図)。
 酸化コバルトは光電極やセンサー、水分解光触媒などへの応用で注目されている材料であり、本研究で得られたナノポーラス構造体により、性能向上が期待できます。

論文はこちら

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本件 お問合せ先
大阪産業技術研究所 電子材料研究部 表面工学研究室
品川 勉 tshina★orist.jp (★を@に替えてください) 

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