【論文掲載および表紙選出】研究成果(アメリカ化学会発行「Crystal Growth & Design」誌)

電子材料研究部　品川勉が主著者として執筆した論文が、アメリカ化学会発行の論文誌「Crystal Growth & Design」に掲載され、その図案が表紙に採用されました。

〇論文題目　“Single-Orientation Nanoporous NiO Films: Spontaneous Evolution from Dense Low-Crystalline Ni(OH)x Films”
（単配向ナノポーラス酸化ニッケル膜：緻密低結晶性水酸化ニッケル膜からの自発形成）

〇執筆者　Tsutomu Shinagawa, Masaya Chigane, Masanari Takahashi

〇概要
ナノサイズの空孔を有する多孔質体のことを「ナノポーラス体」と呼んでいます。代表的なｐ型透明酸化物半導体の酸化ニッケルは電極材料などに応用されていますが、テンプレートやエピタキシャル技術を使わずに、結晶配向したナノポーラス膜を形成することは困難でした。（地独）大阪産業技術研究所では、水溶液電解析出法を用いることで、これまで知られていない緻密かつ平坦な水酸化ニッケル膜を基板上に形成できることを見出しました。これを大気中で加熱処理すると、元の膜形状を維持したまま、無数の(111)配向酸化ニッケル微粒子から構成されるナノポーラス酸化ニッケル膜が得られることが明らかとなりました（下左図）。この成果をまとめた論文が学術誌「Crystal Growth & Design」に掲載され、ナノポーラス体を表現した図案が掲載号の表紙に選出されました（下右図）。

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