地方独立行政法人大阪産業技術研究所 - 当法人は、(地独)大阪府立産業技術総合研究所と(地独)大阪市立工業研究所が統合し、平成29年4月1日にスタートしました。研究開発から製造まで、企業の開発ステージに応じた支援を一気通貫で提供し、大阪産業の更なる飛躍に向け、大阪発のイノベーションを創出します。

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投2022-0062

発表論文 Cu Film Formation on Al2O3 and AlN Substrates by Friction Stirring (摩擦攪拌によるAl2O3およびAlN基板上でのCu膜の形成)"
発表者名 ○園村 浩介、尾﨑 友厚、片桐 一彰、長谷川 泰則、田中 努、垣辻 篤
掲載誌/掲載箇所

Mate 2023 29th Symposium on “Microjoining and Assembly Technology in Electronics” Proceeding

発表日

2022/12/23

概要


摩擦攪拌により大気中で簡便にAl2O3およびAlN基板上にCu膜を形成することができるため、回路パターン形成への適用が期待される。しかしながら、Cu膜の導電性および密着強度は調査されていない。そこで、摩擦攪拌によりAl2O3およびAlN基板上にCu膜を形成し、Cu膜の表面抵抗率および密着強度について調査を行った。