口2023-0115

発表題目	高次構造を制御した共役高分子薄膜の作製と評価
発表者名	二谷 真司
発表会名	第72回高分子討論会
発表日	2023/9/26

概要

有機電子デバイス材料である半導体高分子の配向を制御する方法として、薄膜の延伸に着目した。基板としてポリエチレンテレフタレートを用いて、スピンコート法により半導体高分子P3HTの薄膜を作製し、150°Cの加熱状態で3倍までの延伸を行った。得られた延伸薄膜は偏光吸収の異方性を示すことから、延伸処理によりP3HT分子が配向することが明らかとなった。面内X線回折測定の結果、延伸後の薄膜においてP3HTのπ-πスタッキングに由来する回折ピークが観測された。薄膜の延伸方向に対して垂直にX線ビームを照射したときにより強い回折を示したことから、延伸方向に沿ってP3HTのπ共役主鎖が配向していることが確認できた。