口2022-0086

発表題目	高分子の表面改質と温度による復元制御
発表者名	二谷 真司
発表会名	第71回高分子討論会
発表日	2022/9/5

概要

光や熱、化学薬品などを用いた高分子の表面改質は、濡れ性や接着性などの向上を目的として様々な方法が検討されてきた。中でも、紫外光やプラズマなどを用いた表面改質は、ドライな工程により高分子の表面官能基の変換をできる方法として幅広く利用されている。ここで、高分子材料の表面改質法として真空紫外光に着目し、表面の濡れ性制御を行った。真空紫外光照射により濡れ性は向上し、時間経過と共に元の状態へと復元するが、温度の上昇と共に復元時間が短くなることが明らかとなった。このことから、低温や水塗布などの雰囲気制御を行ことで、表面改質後の状態を長期にわたって維持する方法を見出した。