口2022-0016

発表題目	真空アーク蒸着法によるc-BN 膜合成条件のプラズマ発光分光法を用いた検討
発表者名	○上田 侑正、小畠 淳平、園村 浩介、筧 芳治、三浦 健一
発表会名	プラズマ分光分析研究会 第115回講演会- 金属を支える分析技術 -
発表日	2022/5/20

概要

立方晶窒化ホウ素(c-BN)は、非常に硬く、耐熱性に優れ、鉄と反応しにくいことから、工具・金型の次世代コーティング皮膜として有望である。当所は、工具・金型の一般的な成膜プロセスである真空アーク蒸着法によるc-BN膜の合成技術を世界に先駆けて確立するべく研究に取り組んでいる。本講演会では、当所がこれまで取り組んできた内容、すなわち、BN膜を合成可能なターゲットの開発、BN膜の硬さ・弾性率、構造および組成に及ぼす成膜パラメータ(ガス組成、アーク電流値、基板バイアス電圧)の影響と、最近取り組んでいるプラズマ発光分光測定結果について紹介する。