| 発表題目 |
インサート金属を用いたSiC基材の接合技術とTEMによる界面解析 |
| 発表者名 |
○尾﨑 友厚、他 |
| 発表会名 |
Mate+「エレクトロニクスにおけるマイクロ接合・実装技術」シンポジウム+ |
| 発表日 |
2025/12/9
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概要
SiCセラミックスは高温構造材料として耐酸化性、熱安定性に優れた特性を持ちます。SiC製の大型、複雑形状部品の作製には、SiCを接合するための技術が必要であり、使いやすい接合技術とするためには、熱処理の低温化、短時間化が課題となります。私たちはプロセスの低温化のため、様々なインサート材でホットプレスによる接合処理を検討し、その接合界面をTEMによって調査しました。発表ではTEMによる接合界面の解析結果、SiC系での液相拡散接合現象について報告します。