地方独立行政法人大阪産業技術研究所 - 当法人は、(地独)大阪府立産業技術総合研究所と(地独)大阪市立工業研究所が統合し、平成29年4月1日にスタートしました。研究開発から製造まで、企業の開発ステージに応じた支援を一気通貫で提供し、大阪産業の更なる飛躍に向け、大阪発のイノベーションを創出します。

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口2019-0262

発表題目 PIG-PECVD製膜法により作製したa-C:H薄膜の光学定数に及ぼす基板パルスバイアスの影響
発表者名 ○近藤 裕佑、筧 芳治、佐藤 和郎、松村 直巳、他
発表会名 第141回 表面技術協会講演大会
発表日

2020/3/3

概要


DLCは機械的特性に優れたドライコーティング膜であり、近年、赤外線領域の高透過性を利用した光学薄膜応用が期待されている。我々はPECVD法によって作製されるDLC膜(特にa-C:H)の屈折率が基板バイアスの強弱によって容易に制御できることを見出し、これを用いた光学多層膜の設計と試作を行ってきた。しかし、光学定数値に及ぼす基板バイアスの影響と雰囲気ガスとの関連を定量的に調べた研究例は少ない。本研究では、製膜に用いる炭化水素ガスの種類や混合するArガスとの流量比を変えてCVD製膜を行い、ガス種及び混合比によって基板バイアスの光学定数値への影響が異なることを見出した。