地方独立行政法人大阪産業技術研究所 - 当法人は、(地独)大阪府立産業技術総合研究所と(地独)大阪市立工業研究所が統合し、平成29年4月1日にスタートしました。研究開発から製造まで、企業の開発ステージに応じた支援を一気通貫で提供し、大阪産業の更なる飛躍に向け、大阪発のイノベーションを創出します。

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口2019-0192

発表題目 PECVD法により作製したDLC膜の光学定数の基板パルスバイアス周波数, Duty比及び電力依存性
発表者名 ○近藤 裕佑、筧 芳治、佐藤 和郎、松村 直巳、他
発表会名 第33回ダイヤモンドシンポジウム
発表日

2019/11/13

概要


DLCは機械的特性に優れたドライコーティング膜であり、近年、赤外線領域の高透過性を利用した光学薄膜応用が期待されている。我々はPECVD法によって作製されるDLC膜の屈折率がバイアス電圧の強弱によって容易に制御できることを見出し、これを用いた光学多層膜の設計を行ってきた。しかし、製膜時のバイアス条件は多岐にわたり、これらが光学定数値に及ぼす影響を系統的に調べた報告例は少なく、不明な点が多かった。そこで本研究では、膜の光学定数値に及ぼすパルスバイアスの周波数、Duty比及びパルス電圧値の影響を調べ、バイアスの印加時間と屈折率の間に一定の相関関係を見出したので報告する。