地方独立行政法人大阪産業技術研究所 - 当法人は、(地独)大阪府立産業技術総合研究所と(地独)大阪市立工業研究所が統合し、平成29年4月1日にスタートしました。研究開発から製造まで、企業の開発ステージに応じた支援を一気通貫で提供し、大阪産業の更なる飛躍に向け、大阪発のイノベーションを創出します。

文字の大きさ

ヘッダーメニュー
メニュー

文字の大きさ

口2019-0138

発表題目 PIG-PECVD法によって作製されるa-C:H膜の光学特性の基板温度依存性
発表者名 ○近藤 裕佑、佐藤 和郎、筧 芳治、松村 直巳、他
発表会名 第80回応用物理学会秋季学術講演会
発表日

2019/9/18

概要


PIG-PECVD法により作製される水素化アモルファスカーボンは、製膜条件によって光学定数を広範囲に調整できる。a-C:H膜の光学応用を考えた上では、製膜時の光学定数の安定性が重要である。特に、不可避的に上昇する基板温度に対する光学定数の安定性は産業応用上重要である。そこで、我々は基板パルスバイアスの有/無と基板温度条件を変化させた場合の光学定数の変化を調べた。その結果、基板温度300度程度まで、屈折率はほぼ一定であったが、グラファイト化による消衰係数の顕著な増加が確認された。光学薄膜の安定製膜が可能な基板温度範囲に関する知見が得られた。